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為什么要在高真空下鍍膜?

更新時(shí)間:2020-01-16       點(diǎn)擊次數(shù):4429
 為什么要在高真空下鍍膜?
 1、真空狀態(tài)下,膜料的熔點(diǎn)溫度和蒸發(fā)溫度要比在大氣狀態(tài)下低得多。對(duì)高熔點(diǎn)的氧化物膜料,在真空狀態(tài)下其熔點(diǎn)要低得多。也就容易到蒸發(fā)溫度而不需太高的能量。
2、真空狀態(tài)下,真空室中空氣極少,膜料分子從蒸發(fā)源到達(dá)基片表面的路程中幾乎不與殘留在真空室中的氣體分子碰撞,即分子自由程長(zhǎng)。膜料容易沉積在基片上。
3、 由于真空室中氣體分子少,因而氧分子、硫分子等化學(xué)活潑分子也少,高溫狀態(tài)的膜料分子就不會(huì)與之發(fā)生化學(xué)變化,從而保證膜層的膜料純度。
若晶振水堵塞后把晶振冷卻水管進(jìn)口、出口從連接處斷開,并把閥門關(guān)上,用壓縮空氣從進(jìn)口處吹入壓縮空氣,看出口處是否有異物流出。
 
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